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Despite its capability of high spatial resolution, simulation of turbulent flows with traditional Lagrangian (front tracking) scheme is often discouraged by numerical instability caused by clustering of marker nodes and topological changes of fronts. Contour advection surgery (CAS), being a robust front tracking scheme, can limit the growth of front complexity during simulation without jeopardizing accuracy or efficiency. This allows it to open up an advantage over traditional front-tracking schemes. It has already been demonstrated that CAS, with incorporation of the reaction sheet model, can accurately simulate the propagation and advection of a turbulent premixed V-shaped flame. In this study, it is further tested with 10 values of vortex circulation. A range of upstream turbulence levels of 1.8–19.8% was obtained. Results indicate that upstream turbulence increase the average flame length, flame zone area and the overall burning rate. Flame surface density Σ was also estimated. Maximum values of Σ obtained lie in the range 0.1–1.4 mm−1. Skewness towards the burnt region was observed in all profiles of Σ. Similar to results from laboratory experiments, it was found that Σ values decreases with upstream turbulence. From this study, the ability of CAS to cope with intense turbulence is demonstrated and a better quantitative understanding on the scheme has also been acquired. 相似文献
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The first-order harmonic balance method via first Fourier coefficient is used to construct an approximate frequency-amplitude relation for a Duffing-harmonic oscillator. This relation is in agreement with the result obtained by the Ritz procedure. 相似文献
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在有效质量近似理论下,利用转移矩阵和有效垒高方法研究了有限磁场下含结构缺陷的多组分超晶格中局域电子态的性质.在考虑各组分层有效质量的失配时,外加磁场会导致磁耦合效应的出现.磁耦合效应不仅引起局域电子能级的量子化,并且随着朗道指数或磁场强弱的变化,局域能级及其局域程度都会发生显著移动,特别是对高能区域的局域电子态影响更大.此外,还计算了电子输运系数,讨论了含结构缺陷的三组分超晶格中局域电子能级与输运谱透射禁区中的共振透射峰的关系,发现两者之间有着很好的对应关系,为相应的实验研究提供了依据.
关键词:
超晶格
局域电子态
磁场 相似文献
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厚胶光刻非线性畸变的校正 总被引:3,自引:0,他引:3
利用厚胶光刻技术制作大深度微结构元件是一种有效的途径,但厚胶光刻过程中的非线性畸变对光刻面形质量的严重影响限制了该技术的应用,基于此,提出了一种对掩模透射率函数进行校正的方法。分析空间像形成及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为2.63%。该方法在有效改善面形质量的同时,并没有引起掩模的设计、制作难度及费用增加,这对于设计、制作高质量的微结构元件有重要意义。 相似文献
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唐瑞平 《高等学校化学学报》1991,12(4):532-536
通过测定平带电位,澄清了OH~-离子在CdSe电极上的吸附情况,发现在S、S~(2-)、OH~-溶液中S~(2-)离子优先吸附,结合旋转环盘电极测量,证明n-CdSe电极在多硫溶液界面上的电荷转移过程。 相似文献
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